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處理真空鍍膜設備鍍膜不均勻

2020-08-29

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       不同工藝的真空鍍膜設備處理方式有所區別,不經意的小故障都有可能影響了整臺機器設備的正常運作,遇到問題需要逐一排查,擁有經驗豐富的師傅往往能解決很多問題。說起鍍膜的均勻性,這是評定一臺真空鍍膜機好壞的標準之一。在機器鍍膜過程中,處理真空鍍膜設備鍍膜不均勻,需要排查可能影響膜層均勻性的問題所在,在批量生產前檢測修復完畢。所有的鍍膜設備鍍制膜層都會受到一些影響膜層均勻性的情況,拿磁控濺射真空鍍膜設備來簡要舉例:


真空鍍膜設備


       磁控濺射鍍膜的工作原來并不復雜,通過配備一個高效穩定的濺射源在鍍膜室內一定真空度環境狀態下轟擊靶材,使靶材分解這是一個PVD物理過程,分解后的靶材原子通過工藝沉積產品表面形成膜層。在反應過程中,要考慮磁場的均勻性、真空環境的保壓情況、保護氣體三方面對膜層均勻度的影響。但有些膜層的不均勻變化也可能是濺射源的不穩定或者是靶材引起的,這類型情況比較難處理。
       要知道,無論鍍膜設備自帶的監控儀精度高低,它也只是能夠控制鍍膜室內單點位置的膜層厚度,一般指產品的中間位置,通過控制此基點膜層的均勻來保證遠離此基點產品膜層的均勻。
       真空環境是通過抽氣來控制的,時刻保持穩定的真空度需要精確的檢測和控制系統,在真空度達到所需狀態時需要停止抽氣,真空度將要低于所需狀態是需要及時抽氣穩壓。鍍膜真空度有個合理的區間范圍,此范圍相差越小所需精度越大,控制越困難,相對的穩壓更好更穩定;區間范圍相差越大精度越低,對于檢測和控制系統要求也低,相對壓強波動更大,對于膜層均勻性影響越大。
       在過去的幾年中,越來越多的客戶對真空鍍膜設備要求有越來越高的要求,特別是膜層密度和均勻性質量等方面,對于生產鍍膜機的廠家來說提高自身工藝技術是競爭力的保障。
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