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真空鍍膜設備濺射鍍膜膜層的優點

2020-08-29

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       我們市面上好多產品都是通過磁控濺射方式進行鍍膜的,磁控濺射技術是最常見的一種鍍膜方式,也被眾多真空鍍膜設備廠家所青睞,那么真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜膜層有哪些優點呢,下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下:



       以濺射的方法進行真空鍍膜,由于其鍍膜方式的不同,同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會不一樣的,雖然肉眼無法看出來,但確實擁有一定的優勢。
       膜厚穩定性好,由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關系,電流越高,濺射效率越大,相同時間內,所鍍膜層的厚度相對就大了,因為只要把電流數值控制好,需要鍍多厚,或者多薄的膜層都可以了,當然這個厚度是在可允許的范圍內,而且控制好電流,無論重復鍍多少次,膜層厚度都不會變化,膜厚的穩定性可歸結為膜厚良好的可控性和重復性。
        膜層結合力強,在濺射過程中,有部分電子撞擊到基材表面,激活表面原子,并且產生清潔的作用,而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發所獲得的能量高出1到2個數量級,帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時,有更多的能量可以傳遞到基材上,產生更多的熱能,使被電子激活的原子加速運動,與部分鍍材原子更早互相溶合到一起,其他鍍材原子緊隨著陸續沉積成膜,加強了膜層與基材的結合力。
       鍍材范圍廣,由于真空鍍膜設備濺射鍍膜是通過氬離子的高速轟擊使鍍材濺射出來的,不像蒸發鍍膜由于熔點的原因而限制只能使用熔點比較低的鍍材,而濺射鍍膜幾乎所有固體的物質都可以成為鍍材。
      由以上幾點可以看出濺射真空鍍膜確實比蒸發真空鍍膜的效果好,其原理的不同決定了濺射制備的膜層厚度更穩定,結合力更強,鍍材范圍更廣。

 
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