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PECVD生產線
  • 利用射頻離子化學氣相沉積技術,具有沉積速率快,成膜質量好的特點,可快速鍍制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
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